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LED技術(shù)飽和期尚需10年以上

字體變大  字體變小 發(fā)布日期:2014-06-07  瀏覽次數(shù):389
核心提示:LED過(guò)去是,現(xiàn)在是,未來(lái)仍是高技術(shù);技術(shù)飽和尚需10年以上的努力;早期一些重要專利過(guò)期,更多新的專利在加大覆蓋率;效率提升(LM/W)有賴于技術(shù)進(jìn)步;成本降低(LM/$)也有賴于技術(shù)進(jìn)步;技術(shù)實(shí)力決定產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力;技術(shù)投入決定知識(shí)產(chǎn)權(quán)能力;中國(guó)LED產(chǎn)業(yè)的未來(lái)取決于技術(shù)進(jìn)步的速度與幅度;人才培養(yǎng)與研發(fā)態(tài)度要向韓國(guó)與臺(tái)灣學(xué)習(xí);同行合作,資源整合對(duì)提升中國(guó)LED產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力至關(guān)重要。
  由江門國(guó)家高新區(qū)光電行業(yè)協(xié)會(huì)主辦的一場(chǎng)關(guān)于LED技術(shù)的講座于5月15日正式舉辦,廣東德力光電有限公司營(yíng)銷中心總監(jiān)葉國(guó)光以《LED最新技術(shù)介紹》為主題,講述了最新一代的LED技術(shù)——Flip Chip(倒裝芯片)與無(wú)封裝制程;其他有潛力LED技術(shù)——GaN同質(zhì)襯底,硅襯底等最新技術(shù)方面的內(nèi)容。
 
  未來(lái)五年是貼片固守,倒裝爭(zhēng)鳴的時(shí)代:
 
  1、2015年,大家都可以做到180流明/瓦,做不到的,規(guī)模小的,都會(huì)被淘汰。
 
  2、2015年以前,上游市場(chǎng)還是供過(guò)于求,只有技術(shù)才能驅(qū)動(dòng)LED的市場(chǎng)前進(jìn)。大電流密度的正裝技術(shù)(SMD降成本)與倒裝技術(shù)(易于封裝集成,降低封裝成本)會(huì)是主流。
 
  3、顛覆性技術(shù)(硅襯底或同質(zhì)襯底)永遠(yuǎn)不會(huì)對(duì)市場(chǎng)造成影響。
 
  4、2015年以后,技術(shù)不再是主導(dǎo)市場(chǎng)的力量,品牌與特制規(guī)格產(chǎn)品才是市場(chǎng)力量,LED進(jìn)入成熟行業(yè)。世界的格局分工明確:上游在東亞,燈具制造在中國(guó)內(nèi)地,通路與設(shè)計(jì)在歐美。
 
  此外,大電流驅(qū)動(dòng)是降成本的最佳方法。
 
  無(wú)封裝只適合部分應(yīng)用產(chǎn)品
 
  無(wú)封裝制程實(shí)際上就是不需要封裝工藝,涂布好熒光粉的LED芯片,用SMT法直接焊接到線路基板上。目前發(fā)展此工藝的公司有:晶元光電——ELC (Embedded LED Chip);聯(lián)晶光電與臺(tái)積電——CSP(Chip Scale Package)晶圓級(jí)封裝;晶科與新世紀(jì)——FCOB(Flip Chip on Board)LEDiS, Match。
 
  無(wú)封裝制程與傳統(tǒng)封裝的比較:
 
  1、目前無(wú)封裝工藝技術(shù)路線已經(jīng)確立,但是在產(chǎn)業(yè)化過(guò)程還需要時(shí)間,目前約為封裝制程的2—3倍成本。
 
  2、光學(xué)問(wèn)題還沒(méi)有有效解決,目前亮度與傳統(tǒng)封裝相比,沒(méi)有明顯優(yōu)勢(shì)。
 
  3、如果要采用此工藝,大部分關(guān)鍵設(shè)備需要更新,造成整體成本上升。
 
  4、只適合部分應(yīng)用產(chǎn)品,例如在燈管等大批量應(yīng)用產(chǎn)品方面此工藝無(wú)法滿足。
 襯底對(duì)芯片成本影響越來(lái)越小
 
  襯底對(duì)芯片成本的影響越來(lái)越。阂r底的成本上升是藍(lán)寶石晶片尺寸增大,而不是跟襯底自身成本有關(guān);目前沒(méi)有6寸碳化硅的資料。
 
  由這十年來(lái)的LED發(fā)展歷史,葉國(guó)光找到了一點(diǎn)規(guī)律:
 
  1、每次一個(gè)革命性新技術(shù)(可以一次增加30%以上亮度)成熟之后,會(huì)迎來(lái)一次市場(chǎng)與應(yīng)用大爆發(fā)。
 
  2、這幾年,由于中國(guó)內(nèi)地?cái)U(kuò)產(chǎn)過(guò)猛,新技術(shù)只能慢慢累積,供過(guò)于求(價(jià)格迅速下降)與技術(shù)慢慢改進(jìn)持續(xù)接力了PSS技術(shù)之后的成長(zhǎng),技術(shù)的終極挑戰(zhàn)似乎快要到來(lái)。
 
  此外,葉國(guó)光還認(rèn)為:LED過(guò)去是,現(xiàn)在是,未來(lái)仍是高技術(shù);技術(shù)飽和尚需10年以上的努力;早期一些重要專利過(guò)期,更多新的專利在加大覆蓋率;效率提升(LM/W)有賴于技術(shù)進(jìn)步;成本降低(LM/$)也有賴于技術(shù)進(jìn)步;技術(shù)實(shí)力決定產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力;技術(shù)投入決定知識(shí)產(chǎn)權(quán)能力;中國(guó)LED產(chǎn)業(yè)的未來(lái)取決于技術(shù)進(jìn)步的速度與幅度;人才培養(yǎng)與研發(fā)態(tài)度要向韓國(guó)與臺(tái)灣學(xué)習(xí);同行合作,資源整合對(duì)提升中國(guó)LED產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力至關(guān)重要。
 
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